TFMS-LD反射光谱薄膜测厚仪 检测

产品简介

TFMS-LD反射光谱薄膜测厚仪是一款利用反射光谱测试薄膜厚度的仪器，可快速***地测量透明或半透明薄膜的厚度而不损伤样品表面的薄膜，是一款无损测厚仪，其测量膜厚范围为15nm-50um，测量膜厚范围广，尤其适用于超薄薄膜厚度的测量。仪器所发出测试光的波长范围为400nm-1100nm，波长范围广，因此，测试薄膜厚度的范围广。TFMS-LD反射光谱薄膜测厚仪测试系统的理论基础为镜面光纤反射探头，该仪器仪尺寸小巧可节省实验室空间，操作方便，读数直观，方便于在实验室中摆放和使用。

产品详细信息

产品名称	TFMS-LD反射光谱薄膜测厚仪
产品型号	TFMS-LD
测量膜厚范围	15nm-50um
光谱波长	400 nm - 1100 nm
主要测量透明或半透明薄膜厚度	氧化物 氮化物 光刻胶 半导体（硅，单晶硅，多晶硅等） 半导体化合物（ALGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS等） 硬涂层（碳化硅，类金刚石炭） 聚合物涂层(聚对二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺) 金属膜
特点	测量和数据分析同时进行，可测量单层膜，多层膜，无基底和非均匀膜 包含了500多种材料的光学常数，新材料参数也可很容易地添加，支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等 体积较小，方便摆放和操作 可测量薄膜厚度，材料光学常数和表面粗糙度 使用电脑操作，界面中点击，即可进行测量和分析
精度	0.01nm或0.01%
准确度	0.2%或1nm
稳定性	0.02nm或0.02%
光斑尺寸	标准3mm,可以小至3um
要求样品大小	大于1mm
分光仪/检测器	400 - 1100 nm 波长范围 光谱分辨率: < 1 nm 电源 100 -250 VAC, 50/60 Hz 20W
光源	5W的钨卤素灯 色温：2800K 使用寿命:1000小时
反射探针	光学纤维探针，400um纤维芯 配有分光仪和光源支架
载样台	测量时用于放置测量的样品
通讯接口	USB接口，方便与电脑对接
TFCompanion软件	强大的数据库包含两500多种材料的光学常数（n：折射率，K：消失系数） 误差分析和模拟系统，保证在不同环境下对样品测量的准确性 可分析简单和复杂的膜系
设备尺寸	200x250x100mm
重量	4.5kg

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