GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法

检测标准有哪些内容？检测标准都涵盖了哪些方面？ GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
【英文标准名称】: Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-ray fluorescence spectroscopy
【中文标准名称】: 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
【标准号】: GB/T 24578-2009
【标准状态】: 现行
【发布日期】: 2009-10-30
【实施日期】: 2010-06-01
【发布部门】: 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局;中国国家标准化管理委员会
【起草单位】: 有研半导体材料股份有限公司;万向硅峰电子有限公司
【起草人】: 孙燕;李俊峰;楼春兰;卢立延;张静;翟富义
【标准技术委员会】: 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
【中国标准分类号】: H80
【国际标准分类号】: 29_045
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